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Conductivity control of water content in solvent strip baths 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-003/08
  • B08B-007/04
출원번호 US-0765922 (2007-06-20)
등록번호 US-8545636 (2013-10-01)
발명자 / 주소
  • Miller, Greg P.
  • Johnson, Michael R.
  • O'Connor, John J.
  • Joseph, Martin
출원인 / 주소
  • Atmel Corporation
대리인 / 주소
    Fish & Richardson P.C.
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 9

초록

A system and method for control of water content in a strip bath. The method to control water content in a solvent bath used for cleaning of semiconductor parts in the back end of semiconductor manufacturing requires addition of water to replace evaporated water. This is done by periodically adjusti

대표청구항

1. A method for semiconductor part processing, the method comprising: periodically adjusting, using a controller, a conductivity set point for a solvent solution in a solvent bath based on a chemical bathlife interval and a number of semiconductor parts processed in the solvent bath, wherein periodi

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. O\Dougherty Kevin T. (Minneapolis MN) Sandquist Alden W. (Watertown MN), Apparatus for blending and controlling the concentration of a liquid chemical in a diluent liquid.
  2. Hanson Karrie J. (Westfield NJ) Higashi Gregg S. (Berkeley Heights NJ) Rosamilia Joseph M. (Berkeley Heights NJ), Apparatus for continuously controlling the peroxide and ammonia concentration in a bath.
  3. Dirk Maarten Knotter NL; Leonardus Cornelus Robertus Winters NL; Servatius Maria Vleeshouwers NL, Arrangement and method for detecting the end of life of an aqueous bath utilized in semiconductor processing.
  4. O'Dougherty Kevin T. ; Lemke Travis A. ; Grant Donald C., Chemical blending system with titrator control.
  5. O'Connor, John J., Method and apparatus for treating metal.
  6. Kuo, Chang; Kashkoush, Ismail; Yialamas, Nick; Skibinski, Gregory, Method and system for chemical injection in silicon wafer processing.
  7. Geomini,Marcellinus J. H. J., Method of manufacturing electronic devices, and apparatus for carrying out such a method.
  8. Obeng Yaw Samuel (Orlando FL), Methodology for monitoring solvent quality.
  9. Schueneman John E. (Waukegan IL), System for controlling the composition of chemical treatment baths.

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. Mariserla, Sandeep; Foster, Brian Kennedy; Francis, Aaron T.; Lim, Gregory P.; Lowe, Jeffrey Chih-Hou; Sculac, Robert Anthony, Effluent management, waste dilution, effluent pre-dilution, acid waste handling.
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