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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0019843 (2011-02-02) |
등록번호 | US-8623184 (2014-01-07) |
우선권정보 | EP-11152612 (2011-01-28) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 7 |
It is provided a device for supporting a rotatable target of a deposition apparatus for sputtering material onto a substrate, wherein the device includes a drive unit for rotating the rotatable target; a ring-shaped part connected to the drive unit for attaching the drive unit to the rotatable targe
1. A device for supporting a rotatable target of a deposition apparatus for sputtering material onto a substrate, the device comprising: a drive unit for rotating the rotatable target;a ring-shaped part connected to the drive unit for attaching the drive unit to the rotatable target; and,a segmented
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