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[미국특허] Device for supporting a rotatable target and sputtering apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-014/00
출원번호 US-0019843 (2011-02-02)
등록번호 US-8623184 (2014-01-07)
우선권정보 EP-11152612 (2011-01-28)
발명자 / 주소
  • Schnappenberger, Frank
  • Multerer, Jürgen
출원인 / 주소
  • Applied Materials, Inc.
대리인 / 주소
    Patterson & Sheridan, LLP
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 7

초록

It is provided a device for supporting a rotatable target of a deposition apparatus for sputtering material onto a substrate, wherein the device includes a drive unit for rotating the rotatable target; a ring-shaped part connected to the drive unit for attaching the drive unit to the rotatable targe

대표청구항

1. A device for supporting a rotatable target of a deposition apparatus for sputtering material onto a substrate, the device comprising: a drive unit for rotating the rotatable target;a ring-shaped part connected to the drive unit for attaching the drive unit to the rotatable target; and,a segmented

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Taylor Clifford L. (Nerstrand MN) Crowley Daniel T. (Owatonna MN), Rotating floating magnetron dark-space shield.
  2. Taylor Clifford L. (Nerstrand MN) Crowley Daniel T. (Owatonna MN), Rotating floating magnetron dark-space shield and cone end.
  3. Stevenson David E. (Northfield MN) Bjornard Erik J. (Northfield MN) Humberstone Geoffrey (Northfield MN), Rotating magnetron incorporating a removable cathode.
  4. Rosenstein Michael (Sunnyvale CA) Grunes Howard (Santa Cruz CA) Brodsky Stephen Bruce (Fishkill NY), Screwless shield assembly for vacuum processing chambers.
  5. Taylor Clifford L. (Nerstrand MN), Spring-loaded mount for a rotatable sputtering cathode.
  6. Dennis R. Hollars, Sputtering apparatus and process for high rate coatings.
  7. Hartig Klaus (Ronneburg DEX) Szczyrbowski Joachim (Goldbach DEX), Sputtering apparatus with a rotating target.
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