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Electroless copper plating compositions 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-018/54
  • C23C-018/16
  • H05K-003/00
  • C23C-018/40
  • H05K-003/18
  • H05K-003/42
출원번호 US-0993791 (2016-01-12)
등록번호 US-9702046 (2017-07-11)
발명자 / 주소
  • Laitar, David S.
  • Li, Crystal P. L.
  • Chow, Andy Lok-Fung
출원인 / 주소
  • Dow Global Technologies LLC
대리인 / 주소
    Piskorski, John J.
인용정보 피인용 횟수 : 0  인용 특허 : 5

초록

Electroless copper plating baths include alternative reducing agents to the conventional reducing agents currently used in the electroless plating industry. The electroless copper baths are stable and deposit a salmon bright copper deposit on substrates. Exclusion of many environmentally unfriendly

대표청구항

1. A method comprising: a) providing a substrate;b) applying an electroless copper plating composition to the substrate, the electroless copper plating composition comprises one or more sources of copper ions, one or more chelating agents and one or more compounds chosen from 2,2-dimethoxyacetaldehy

이 특허에 인용된 특허 (5)

  1. Verbunt, Han, Copper bath composition for electroless and/or electrolytic filling of vias and trenches for integrated circuit fabrication.
  2. Ferrier Donald R. (Thomaston CT), Electroless copper deposition solutions with hypophosphite reducing agent.
  3. Kotsuka Kazunori,JPX ; Kondo Koji,JPX, Electroless plating solution.
  4. Darken Jeffrey (Woking GB2), Formaldehyde-free autocatalytic electroless copper plating.
  5. Brasch William R. (Nesconset NY), Formaldehyde-free electroless copper plating solutions.
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