최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | WIPO(WO) A1 공개 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | CN-0080031 (2012-08-13) |
공개번호 | WO-0026361 (2013-02-28) |
우선권정보 | CN-201110241791 (2011-08-22) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
A step photolithography device and a photolithography exposure method thereof. The step photolithography device includes: an illumination unit (1) for providing an exposure beam, a workpiece station (4) for supporting a base (7) to move with six degree of freedom within a large journey range, a mask
대표청구항이 없습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.