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NTIS 바로가기국가/구분 | WIPO(WO) A1 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0012070 (2018-01-02) |
공개번호 | WO-0128984 (2018-07-12) |
우선권정보 | US-201762441703 (2017-01-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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A method of monitoring overlay is used in a manufacturing process in which successive layers are deposited one over another to form a stack. Each layer may include a periodic structure such as a diffraction grating to be aligned with a periodic structure in another layer. The stacked periodic struct
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