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NTIS 바로가기국가/구분 | WIPO(WO) A1 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US2022/037273 (2022-07-15) |
공개번호 | 2023/003768 (2023-01-26) |
우선권정보 | 63/224,027 (2021-07-21) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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A controller for a processing chamber configured to perform a deposition process on a substrate comprises a temperature monitor configured to obtain a temperature of a showerhead of the processing chamber, a deposition time determiner configured to determine an optimized deposition time based on the
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