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NTIS 바로가기등록일자 | 2005-03-25 |
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출처 | RESEAT |
URL | https://www.reseat.or.kr/portal/cmmn/file/fileDown.do?menuNo=200019&atchFileId=edef26d4cc04462b98021a91d15f0a3e&fileSn=1&bbsId= |
□ 반도체 제조 공정에 널리 사용되고 있는 고체에 가속 이온을 주입하여 그 표면의 특성을 변화시켜 주는 이온 주입 장치(Ion Implanter)는 높은 신뢰성과 조종의 단순화 및 자동화가 요구되고 있으며 이에 대한 에 관한 연구개발이 필요하다.
□ 반도체 소자에 대한 최근의 소형화 추세에서 초기에 주입되는 이온의 분포를 정밀하고 정확하게 제어하는 것은 후속으로 주입되는 이온의 정확한 불순물 분포를 얻고 소자를 성공적으로 개발하는데 필수적이다.
□ 산업용 이온 주입 장치에서 원격 조정 시스템은
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