최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기등록일자 | 2008-06-12 |
---|---|
출처 | RESEAT |
URL | https://www.reseat.or.kr/portal/cmmn/file/fileDown.do?menuNo=200019&atchFileId=90c6a787679b4b04bc5fcd777a0d54de&fileSn=1&bbsId= |
○ 빛으로 이미지를 형성할 수 있는 물질(포토레지스트)은 용도가 다양하고 종류도 많다. 일반 인쇄에서부터 PCB의 제조 반도체공정 등에 포토레지스트는 필요불가결한 물질이다.
○ 포토레지스트는 기질에 빛, 전자선, 레이저 등을 조사하여 이미지(패턴)를 형성하기 위한 물질이다. 현상용액으로 원하지 않는 부분의 포토레지스트를 제거하여 패턴을 만든다. 포토레지스트가 없는 부분을 에칭용액으로 녹여내어 패턴을 기질에 전사한다.
○ 에칭 후에는 포토레지스트를 완전히 제거해야 한다. 포토레지스트는 에칭공정에
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.