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NTIS 바로가기등록일자 | 2010-04-27 |
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출처 | RESEAT |
URL | https://www.reseat.or.kr/portal/cmmn/file/fileDown.do?menuNo=200019&atchFileId=1f00198be4814ba3b388a4b502d9d3af&fileSn=1&bbsId= |
○ 스퍼터링 증착법에는 Magnetron, DC diode, Electron beam vapor deposition, Ion beam, Pulsed laser deposition 등 많은 방법이 있다. 그러나 이들 방법의 성막온도는 500~700℃정도이나 전자 사이클로트론 공명(Electron Cyclotron Resonance, ECR)플라스마 스퍼터링법에서는 300℃정도로 낮기 때문에 플렉시블 한 폴리머기판을 사용할 수 있다. 따라서 가격경쟁력이 있으며 취급상의 편리성이 좋은 장점이 있다.
○ 양극의 후막화를
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