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NTIS 바로가기등록일자 | 2012-10-16 |
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출처 | RESEAT |
URL | https://www.reseat.or.kr/portal/cmmn/file/fileDown.do?menuNo=200019&atchFileId=2aeb62e09fab42dcb58f6fda09fae494&fileSn=1&bbsId= |
○ 나노임프린트 기술은 열을 가하는 방식과 UV경화성수지를 이용하는 방식이 있으며, 열을 가하는 방식은 열경화성수지를 이용하여 고온조건에서 스탬프를 고압으로 눌러 원래의 형상을 모사하며, UV 나노임프린트 방식은 광경화반응을 이용하여 UV경화성수지를 경화시켜 모사한다. UV를 이용하는 방식은 상온, 저압에서 모사가 가능한 장점으로 인해 크게 부각되고 있는 실정이다.
○ UV지원 나노임프린트 리토그라피는 임프린트된 기판 내에 배치된 UV 감광성 폴리머 필름에 200~400nm의 파장 내에서 투명한 몰드를 형압함으로
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