[특허]광경화성 폴리머 레진 복합체를 이용한 미세 패턴의 형성 방법

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[한국특허] 광경화성 폴리머 레진 복합체를 이용한 미세 패턴의 형성 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/공개특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	C08L-033/04 C08L-033/14 C08L-071/00 C08K-003/36
출원번호	10-2012-0150631 (2012-12-21)
공개번호	10-2014-0023843 (2014-02-27)
우선권정보	대한민국(KR) 1020120090166 (2012-08-17)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020120150631
발명자 / 주소	김성현 / 서울 서초구 신반포로 , 동 호 (반포동, 주공아파트) 송기국 / 경기 성남시 분당구 양현로번길 , 동 **호 (이매동, 이매촌동신단지아파트)
출원인 / 주소	경희대학교 산학협력단 / 경기도 용인시 기흥구 덕영대로 ****, 국제캠퍼스내 (서천동, 경희대학교)
대리인 / 주소	서재승
심사청구여부	있음 (2012-12-21)
심사진행상태	거절결정(일반)
법적상태	거절

초록

본 발명은 광경화성 폴리머 레진 복합체에 관한 것으로, 보다 구체적으로 나노 임프린트(nano-implint)에 사용되는 폴리머 레진 복합체로 아크릴기를 구비하는 아크릴레이트 계열의 폴리머 레진에 무기물 첨가제를 혼합하여 나노 단위의 미세 패턴의 기계적 강도를 강화시키고 광경화시 수축율을 조절하여 미세 패턴의 정밀도를 향상시킨 나노 임프린트용 폴리머 레진 복합체 및 이를 이용한 나노 임프린트 미세 패턴 형성 방법에 관한 것이다.

대표청구항

광경화 나노 임프린트용 폴리머 레진 복합체에 있어서,폴리머 레진과,상기 폴리머 레진의 1 wt% 내지 7wt%의 나노 단위 무기물 첨가제를 상기 폴리머 레진에 균일하게 분산시켜 제조되는 광경화 나노 임프린트용 폴리머 레진 복합체.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

[한국] 광 나노 임프린트 리소그래피용 경화성 조성물 및 그것을사용한 패턴형성방법 | 타카야나기 타카시, 카와베 야스마사, 사사키 히로키, 사키타 쿄헤이
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[한국] 금속체의 마이크로 표면 주름 제조 방법 | 박상후
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관련 콘텐츠

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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