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NTIS 바로가기등록일자 | 2022-01-07 |
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출처 | KOSEN-코센리포트 |
DOI | https://doi.org/10.22800/kisti.kosenexpert.2022.877 |
최근 4차산업혁명으로 인하여 반도체의 생산과 소비가 급증하고 있으며, 반도체 제조공정 중 실리콘 표면을 식각 처리하는 공정과 Photo 공정에서 photo resist의 현상액, 세정수 등으로 사용되는 물질인 TMAH(Tetra Methyl Ammonium Hydroxide)의 사용량도 함께 증가하고 있다. TMAH는 전자산업(TFT-LCD), 반도체산업에 널리 사용되는 강알칼리성 유기 아민계 용액이며 무색, 투명의 강염기성 물질로 수용성, 가연성을 나타내며 독성이 매우 강한 물질로 알려져 있다. 전자산업, 반도체산업 폐수처리 시
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