최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기등록일자 | 2004-04-20 |
---|---|
출처 | KOSEN-코센리포트 |
URL | https://kosen.kr/info/kosen/160929 |
문서암호 : www.kosen21.org
1. 자료명: Dielectric film etching in semiconductor device manufacturing
2. 저자: Makoto Sekine
3. 출판사: Elsevier, Applied surface science
4. 출판날짜: 2002년
5. 내용소개
반도체 소자 가공 공정 개발 및 장비 개발에는 점점 많은 비용이 들어가고 있으며 이러한 비용 때문에 한 기업이 기술을 개발하여 상용화하기가 어려워지고 있다. 이러한
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.