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NTIS 바로가기등록일자 | 2004-09-02 |
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출처 | KOSEN-코센리포트 |
URL | https://kosen.kr/info/kosen/178058 |
원문 | http://scitation.aip.org/getpdf/servlet/GetPDFServlet?filetype=pdf&id=JAPIAU000094000009005451000001&idtype=cvips |
문서암호 : www.kosen21.org
1. 자료명: Recent advances on electromigration in very-large-scale-integration of interconnects
2. 저자: K. N. Tu
3. 출판사: Journal of Applied Physics
4. 출판날짜: 2003년 1월
5. 내용소개
지난 40여년간 ?상의 전극재료로서 사용되어온 Al은 resistance?capacitance delay,electromigration resistan
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