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NTIS 바로가기등록일자 | 2008-05-23 |
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출처 | KOSEN-코센리포트 |
URL | https://kosen.kr/info/kosen/683163 |
문서암호 : www.kosen21.org
1. 분석자 서문
반도체의 발전 속도를 살펴보면 미세가공 기술의 진보와 밀접한 관련을 가지고 있음을 알 수 있다. 기하급수적인 성능 향상에는 집적되는 트랜지스터수의 양 또한 기하급수적으로 필요하게 되었으며, 이를 가능하게 한 기술이 현재 널리 사용되고 있는 포토리소그라피 (photolithography)법이다. 하지만, 노광기술에 사용되는 빔으로는 이론상 최소의 패턴폭까지 줄여진 상태이므로, 더 많은 집적을 위해서는 다른 방식의 미세가공기술이 필요하다. 보통의 노광방식이 U
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