초록 ▼

문서암호 : www.kosen21.org

1. 분석자 서문
이광자흡수(two photon) 현상을 이용한 3차원 마이크로 가공법의 발전을 토대로 새로운 미세 구조 소자의 개발이 급진전되고 있다. 근적외선의 초단펄스 레이저를 광경화 수지내의 일정 영역에 초점을 맞추면, 초점 영역만 선택적으로 경화되기 때문에 초점 영역의 위치를 조절하면서 가공하면 3차원 구조를 쉽게 만들 수 있다. 근래에는 100nm크기 이하의 영역도 정밀하게 가공이 가능할 정도지만, 아직 정밀도나 효율측면에서는 더 많은 진전이 필요한 것이 사실이다

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1. 분석자 서문
이광자흡수(two photon) 현상을 이용한 3차원 마이크로 가공법의 발전을 토대로 새로운 미세 구조 소자의 개발이 급진전되고 있다. 근적외선의 초단펄스 레이저를 광경화 수지내의 일정 영역에 초점을 맞추면, 초점 영역만 선택적으로 경화되기 때문에 초점 영역의 위치를 조절하면서 가공하면 3차원 구조를 쉽게 만들 수 있다. 근래에는 100nm크기 이하의 영역도 정밀하게 가공이 가능할 정도지만, 아직 정밀도나 효율측면에서는 더 많은 진전이 필요한 것이 사실이다. 이 리뷰에서는 이광자를 효율적으로 흡수할 수 있는 발색단(chromophore)의 종류를 살펴보고, 3차원 마이크로 구조 가공법의 원리와 새로운 가공법에 대해 소개하여 이해를 넓히고자 한다.

2. 목차


1. 서문

2. 이광자흡수 재료의 진보
2.1. 이광자흡수의 기초
2.2. 이광자 흡수 발색물질 개관

3. 삼차원 마이크로가공의 기본
3.1. 일반적인 입체리소그라피와 마이크로입체리소그라피
3.2. 마이크로입체리소그라피에서의 라디칼 중합
3.3. 나노가공용 이광자중합
3.4. 이광자중합을 이용한 나노입체리소그라피(NSL)

4. 이광자 나노 가공법의 진화
4.1. 정밀 2차원 패턴을 위한 나노복제인쇄술(Nanoreplication printing, nRP)
4.2. 이광자흡수중합과 자외선 사전 조사법을 이용한 고종횡비의 패턴 형성
4.3. Convavo-convex 패턴 가공용 나노표면 공정(Nanosurfacing process,NSP)
4.4. 실리콘 기판 위에 고종횡비의 나노구조 제작
4.5. TPP를 이용한 삼차원 마이크로구조의 정밀제작
4.6. TPP에 유용한 가공방법
4.7. sub-100nm 나노가공을 위한 라디칼소강 메커니즘
4.8. PDMS기반 수지를 이용한 강건한 차원 마이크로구조 제작

5. 응용 분야
5.1. 광중합 팁 제작(for scanning-probe microscopy)
5.2. 마이크로구조를 대량 생산하기 위한 삼차원 나노임프린트
5.3. 기계적 물성을 평가하기 위한 고분자 마이크로필라 제작

Reference



3. 원문정보
Kwang-Sup Lee, Ran Hee Kim, Dong-Yol Yang, Sang Hu Park,Advances in 3D nano/microfabrication using two-photon initiated polymerization, Progress in Polymer Science, June 2008

※ 이 자료의 분석은 삼성전자의 변호연님께서 수고해 주셨습니다.