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NTIS 바로가기등록일자 | 2012-06-18 |
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출처 | KOSEN-코센리포트 |
URL | https://kosen.kr/info/kosen/760178 |
원문 | http://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/adma.201104129/abstract |
1. 분석자 서문
원자층 증착법(ALD: atomic layer deposition)은 거의 40년 전에 핀란드의 Suntola등에 의해 개발되어 특허를 받은 기술이다. 초기에 이 기술의 목적은 평판 디스플레이의 대량 생산을 위한 것이었다. 하지만 최근 10여 년간 반도체 등의 분야에서 나노 구조 형성에 있어 응용 가능성이 확인되면서 나노 구조를 가지게 되면 도움이 되는 다양한 분야에의 적용이 검토되고 있다. 본 리뷰는 ALD의 다양한 응용 분야 중 에너지 저장과 변환 및 환경 분야에의 적용을 목표로 하는 나노 구조체 형성에
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