최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국전자통신연구원 Electronics and Telecommunications Research Institute |
---|---|
연구책임자 | 박신종 |
참여연구자 | 유형준 , 김현태 , 김상호 , 전치훈 , 장원익 , 정기로 , 이용일 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1986-11 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국전자통신연구원 Electronics and Telecommunications Research Institute |
등록번호 | TRKO200200001088 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
1. LPCVD장비의 사양설정
LPCVD공정기술 및 이의 실현을 위한 기존장비의 변화 추세를 분석하고, IC제조공정중에서의 각 층에 요구되는 특성을 분석함으로써 개발장비의 목표하는 성능을 결정하였다.
2. LPCVD장비의 기능설계
LPCVD장비를 모듀울별로 구분하여 각 모듀울의 성능결정 및 개선 방안을 검토하고 모듀울간의 연결방안을 강구하여 장비의 제작도면을 작성했다.
3. 장비제작 및 평가
전체 시스템을 Reaction Chamber시스템, 웨이퍼로딩 시스템, 가스 공급계, 진공시스템, 제어시스템의 5개
The low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) equipment is chosen as ETRI's first equipment, because it is simple in structure and rather well understood theoretically. Theoretical and numerical analysis of an LPCVD reactor are performed to estabilish data base for machine designing and materia
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.