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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국전자통신연구원 Electronics and Telecommunications Research Institute |
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연구책임자 | 김보우 |
참여연구자 | 김윤태 , 전치훈 , 장원익 , 권오균 , 정기로 , 이두영 , 이영수 , 안성호 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1989-06 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국전자통신연구원 Electronics and Telecommunications Research Institute |
등록번호 | TRKO200200002999 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 금속 열처리.반도체 소자.반도체 장비.텅스템 할로겜 램프.열산화.열질화.활성화 공정.RTPC RAPID THERMAL PROCESS.SEMICONDUCTOR DEVICE.SEMICON.EQUIPMENT.TUNGSTEIN HALOGEN LAMP.THERMAL OXIDATION.THERMAL NITRIDATION.ACTIVATION PROCESS. |
급속열처리 장비는 최근에 개발되어 사용되어 지고 있는 반도체 열처리 장비로서, 외국의 주요 반도체 공정장비 업체에서 다양한 장비모델을 생산하여 공급하고 있고, 국내의 대부분의 반도체 소자 업체에서도 막대한 계산을 투입하여 수입 사용하고 있다. 그러나 국내에서는 아직 이에 대한 연구개발이 활발하지 못하여 실험실 수준을 벗어나지 못하고 있고, 개발된 시스템의 성능과 신뢰도가 외국제품에 비해 아주 떨어져 현재까지 상품화되지 못하고 있다. 본 연구에서는 차새대 열처리 장비로 대두되고 있는 급속 열처리 장비의 구조와 특성의 조사, 분석, 공
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