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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한양대학교 HanYang University |
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연구책임자 | 이주성 |
참여연구자 | 여운관 , 신성호 , 조정산 , 고용석 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1988-08 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한양대학교 HanYang University |
등록번호 | TRKO200200003308 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 무전해 동도금.인쇄회로기판.첨가제.촉진제.안정제.Electroless copper plating.PCB.Additives.Accelerator.stabilizer. |
인쇄회로기판은 전자산업발달에 따라 다층화 고밀도화 되어가고 있다. 다층화에 있어 층간 회로를 접속시키는 일을 무전해 구리도금에 의한 스로홀 도금으로하고 있는데 이는 균일하고 신뢰성있는 회로 제작을 위해 가장 중요한 기술로 되어 있다. 여러가지 인쇄회로기판 제작방법이 있으나 우리나라는 거의 전부가 서브트랙티법에 의해 제작되고 있으며, 이에 필요한 무전해 구리도금액은 거의다 수입에 의존하고 있으므로 이에 대응할 수 있는 무전해 구리도금액 개발을 목적으로 하였다. 욕의 기본성분을 황산구리 10 g/1, EDTA.2Na 40 g/1, 포르
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