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펄스 전해법에 의한 금속재료의 피복기술 개선에 대한연구 (III)
A Study on the Improvement of the Coating Technology of Metal by the Pulse Current Electroplating Methods (III) 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한국과학기술원
Korea Advanced Institute of Science and Technology
연구책임자 변수일
참여연구자 임찬 , 김창하
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월1990-05
주관부처 과학기술부
사업 관리 기관 한국과학기술원
Korea Advanced Institute of Science and Technology
등록번호 TRKO200200003505
DB 구축일자 2013-04-18
키워드 교류 임피던스.등가회로.수소.산소.흡착.부동태 피막.팔라듐.AC Impedance.Equivalent circuit.Hydrogen.Oxygen.Adsorption.Passivation.Palladium.

초록 ▼

팔라듐은 내부식성이 강하여 표면에 산화피막의 생성이 적고, 가격이 저렴하여 전자부품의 접점재료및 전기화학 반응을 위한 전극재료로 그 이용 범위가 확대되고 있다. Cu 모재위에 펄스 전해법에 의해 전착된 팔라듐 도금층을 전극으로 하여 0.1N NaOH 용액내에서 부하전위를 -0.76 Ⅴ(upper SHE)에서 1.44 Ⅴ(upper SHE)까지 변화시켜며 AC 임피던스를 측정하였다. 그 결과 얻어진 Admittancd plot으로 등가 회로를 구성하였며, 이를 기초로 하여 각전위에서 얻어진 Admittance plot을 컴퓨터를 이용

목차 Contents

  • 제1장 서론...11
  • 제2장 문헌조사...13
  • 제1절 Electrocatalyst의 중요성 및 역할...13
  • 제2절 Hydrogen 발생 반응 과정...27
  • 제3장 실험방법...32
  • 제1절 펄스 팔라듐 도금...32
  • 제2절 임피던스를 통한 전기 화학적 성질조사...35
  • 제4장 실험결과 및 고찰...45
  • 제5장 결론...78
  • 참고문헌...80

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참고문헌 (25)

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