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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국과학기술원 Korea Advanced Institute of Science and Technology |
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연구책임자 | 변수일 |
참여연구자 | 송락현 , 김창하 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1989-05 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국과학기술원 Korea Advanced Institute of Science and Technology |
등록번호 | TRKO200200002320 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 펄스 도금.팔라듐.임피던스 측정.하전 전달 저항.PULSE PLATING.PALLADIUM.IMPEDANCE MEASUREMENT.CHARGE TRANSFER RESISTANCE. |
본 연구는 팔라듐 도금에서 직류 도금 방법에 의하여 얻어지는 전착증 물성의 한계를 펄스 전해법을 도입함으로써 전착층 특성을 향상시키고, 펄스 전햐법의 전반적인 기술을 개발하기 위한 연구이다. 펄스 도금 변수들에 따른 음극 전류 효율, 도금층의 두께, 표면 MORPHOLOGY 관찰, 부식 속도, 하전 전달 저항등을 측정하여 최적의 팔라등 도금 조건을 조사하여 다음과 같은 결론을 얻었다. (1) 펄스 전해법에 의한 팔라듐 도금의 최적 조건은 도금욕 온도가 6.5℃, 평규ㅁ 전류 밀도가 2mA/cM-2, DETY CYCLE 이 40.60
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