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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국과학기술연구원 Korea Institute Of Science and Technology |
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연구책임자 | 이동휘 |
참여연구자 | 김성규 , 조윤주 , 선용규 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1992-02 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국과학기술연구원 Korea Institute Of Science and Technology |
등록번호 | TRKO200200004587 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 팽창흑연.KISH 흑연.전도성피막재료.Colloidal Graphite.KISH GRaphite.Conductive Coating Material. |
KISH 흑연의 미립마광시 최적마광조건은 광액농도를 15%로 하고 시료와 Steel Ball의 중량비는 1/60에서 600rpm으로 교반하는 것이 효과적이며 이 경우 20시간 이상 마광하면 100mesh 크기의 입자가 10㎛ 이내로 유지된다. 한편 Colloidal Graphite를 제조하기 위한 첨가물들의 최적조성비는 KISH 흑연 16%, 토상흑연(또는 Carbon Blank 4%), 점결제로 Potassium Silicate 38%, 분산제로 Polyvibyl pyrrolidone 1% 정도, Naphthalenesulfona
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