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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국과학기술연구원 Korea Institute Of Science and Technology |
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연구책임자 | 은광용 |
참여연구자 | 백영준 , 박종구 , 이광렬 , 이옥성 , 이재갑 , 김정우 , 강종무 , 박승태 , 신택중 , 박준규 , 유민호 , 최준엽 , 박범수 , 성수현 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1992-08 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국과학기술연구원 Korea Institute Of Science and Technology |
등록번호 | TRKO200200005841 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 다이아몬드상 카본필름.플라즈마 증착.박막의 내부응력.Diamond-Like Carbon Film.Plasma Deposition.Residual Stress Behavior. |
다이아몬드상 카본필름의 저온합성기술로서 RF PECVD와 Triode Type Pulase Discharge Plasme CVD 장비를 제작하고, 다이아몬드상 카본필름의 안정된 합성조건과 필름의 특성을 조절하기 위한 중요한 합성변수에 관한 기초자료를 확보하고자 하였다. 합성된 다이아몬드상 카본필름은 합성조건에 따라 수소를 30~40% 함유하고 있었으며, 합성속도는 0.05에서 2㎛/h 구간의 값을 가지고 있었다. 필름은 수 GPa의 높은 내부압축응력을 가지고 있었으며, 두꺼운 필름의 경우에는 이로 인해 기판으로부터 필름이 분리되는
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