초록 ▼

·본 연구기간에 화학증착법(CVD)에 의해 제조된 BN은 turbostratic hexagonal BN임을 알 수 있었으며 N/B의 비가 0.83~0.93인 B-rich인 BN film임을 알 수 있었음.
·증착속도가 80 Å/min 보다 작은 경우에 out-of-plane BN의 결합은 최소화 되었다.
·Quadruple mass spectrometer를 이용하여 TEB의 열분해 과정에서의 ammonia의 영향을 검토해본 결과 기판위에 도달하기 전에 TEB가 ammonia와 반응한다는 것을 알 수 있었다.
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·본 연구기간에 화학증착법(CVD)에 의해 제조된 BN은 turbostratic hexagonal BN임을 알 수 있었으며 N/B의 비가 0.83~0.93인 B-rich인 BN film임을 알 수 있었음.
·증착속도가 80 Å/min 보다 작은 경우에 out-of-plane BN의 결합은 최소화 되었다.
·Quadruple mass spectrometer를 이용하여 TEB의 열분해 과정에서의 ammonia의 영향을 검토해본 결과 기판위에 도달하기 전에 TEB가 ammonia와 반응한다는 것을 알 수 있었다.
·본 반응계에서 BN의 화학증착속도는 γ/SUB BN/=(6.35*10/SUP 11/)exp(-74700/RT)m/SUP 0.7/SUB TEB/ [g·m/SUP -2/·S/SUP -1] 이었으며 증착온도 1000℃ 이상의 조건에서는 homogeneous gas phase nucleation이 일어남을 알 수 있었다.

목차 Contents

• 제1장 서론...17
• 제2장 이론...25
• 제3장 화학증착법에 의한 BN 박막 제조 실험...33
• 제4장 결론...85
• 참고문헌...87