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[국가R&D연구보고서] Al/TiN-MOCVD mechanism에 관한 연구
Al/TiN-MOCVD mechanism 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한국과학기술원
Korea Advanced Institute of Science and Technology
연구책임자 윤덕용
참여연구자 천성순 , 안병태 , 김도현 , 이원종
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월1995-11
주관부처 과학기술부
연구관리전문기관 한국과학기술원
Korea Advanced Institute of Science and Technology
등록번호 TRKO200200009121
DB 구축일자 2013-04-18

초록

목차 Contents

  • 제1장 Al MOCVD 분야...25
  • 제1절 서론...25
  • 제2절 문헌조사...27
  • 1. Step coverage...27
  • 2. Electromigration...27
  • 3. EM의 시험방법...29
  • 4. 유속발산...31
  • 5. 결정립 크기의 균일성...32
  • 6. 미세조직의 변수와 EM...33
  • 7. 첨가원소의 영향...33
  • 8. MOCVD Source Materials...35
  • 제3절 연구수행 방법 및 내용...37
  • 1. 시편준비 및 실험 방법...37
  • 2. 증착장치...38
  • 3. TIBA를 이용한 Al-CVD...41
  • 4. DMEAA를 이용한 Al-CVD...45
  • 5. Al 박막의 증착...46
  • 가. 증착속도...46
  • 나. 박막의 화학적 조성...53
  • 다. Al 박막의 morphology와 texture...58
  • 라. Al 박막의 contact 충전...62
  • 마. 박막의 저항치...66
  • 6. Al/TiN multi-chamber reactor 설계 및 제작...66
  • 가. Gas feeding system...69
  • 나. Reaction chamber...72
  • 다. RTP chamber...72
  • 라. Load lock system...75
  • 마. Pumping system...75
  • 제4절 결론...77
  • 참고문헌...78
  • 제2장 CVD Mechanism & Process Modelling...82
  • 제1절 서 론...82
  • 제2절 MOCVD 반응기에 관한 매크로 모델링...84
  • 제3절 Al MOCVD 수직 반응기에 대한 매크로 모델링...90
  • 제4절 Trench 충전에 대한 마이크로 모델링...97
  • 제5절 수치 해석 결과 및 토의...104
  • 제6절 결 론...121
  • 참고 문헌...122
  • 제3장 TiN/Ti ECR-PECVD 분야...124
  • 제1절. 서 론...124
  • 제2절. 문헌 조사...128
  • 1. TiN, Ti의 역할 및 일반적 성질...128
  • 2. High EM resistance을 위한 Al/TiN/Ti/Si 구조...131
  • 3. TiN의 박막제조 방법 및 그에 따른 물성...133
  • 가. Sputtering 증착법...133
  • 나. 열(저압) 화학 기상 증착법...134
  • 다. 플라즈마 화학 증착법...138
  • (1) RF 플라즈마 화학 증착법...138
  • (2) ECR 플라즈마 화학 증착법...139
  • 제3절. 실험 방법...143
  • 1. 실험 장치 및 증착 방법...143
  • 2. TiN 박막 분석 방법...143
  • 제4절. 결과 및 고찰...147
  • 1. $H_2$ 유량 변화에 따른 박막 특성...147
  • 2. microwave power 변화에 따른 박막 특성...153
  • 3. 증착 온도 변화에 따른 박막 특성...157
  • 4. Al/TiN/Si 구조에서 TiN 박막의 barrier 특성...165
  • 5. TiN/Ti 이중박막의 연속 증착...167
  • 제5절. 결론...169
  • 제6절. 참고 문헌...170

연구자의 다른 보고서 :

참고문헌 (25)

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