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반도체 웨이퍼를 위한 얼라이너의 개발
Development of Wafer Aligner 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한양대학교
HanYang University
연구책임자 박종현
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월1995-03
주관부처 과학기술부
사업 관리 기관 한양대학교
HanYang University
등록번호 TRKO200200018771
DB 구축일자 2013-04-18
키워드 점착-미끄럼 마찰.위치정밀도.서보.CCD.fiducial mark.stick-silp friction.posltional accuracy.servo.CCD.fiducial mark.

초록

본 연구는 반도체 공정에서 반도체 웨이퍼를 정렬하는데 사용되는 단축 얼라이너를 개발하는데 있다. 특히 cluster chamber와 같은 진공 환경에서 사용될 수 있도록 하기위해 사용되는 실링의 점착-미끄럼 마찰로 인한 위치의 정밀도를 높이는 것이 주요 과제 목표였다. 본 연구에서는 100W DC 서보 모터와 50,000 pulses/rev encoder를 이용하는 direct-drive 서보시스템을 구성하였고, 모터 제어 회로를 설계, 제작하였다. 실링의 비선형성의 마찰의 영향을 줄이기 위해 TDC를 사용하여 제어를 하였다

Abstract

The objective of this research is to develop a single-axis aligner which is used to align silicon wafers and substrates. Another important objective is to increase positional accuracy under the influence of stick-slip friction in order to be used in a vacuum environment. The prototype aligner consi

목차 Contents

  • 1. 서론...7
  • 2. 본문...9
  • 2.1 시스템 개요...9
  • 2.2 시스템 구성...13
  • 2.3 하드웨어...16
  • 2.4 소프트웨어...24
  • 3. 실험...34
  • 3.1 실험 목적...34
  • 3.2 실험 방법...34
  • 3.3 실험 결과...35
  • 4. 결론...37
  • Reterences...38
  • Appendix...39

참고문헌 (25)

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