최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국생산기술연구원 Korea Institute of Industrial Technology |
---|---|
연구책임자 | 고명완 |
참여연구자 | 조형호 , 신승용 , 조훈 , 김종훈 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1997-00 |
주관부처 | 산업자원부 |
과제관리전문기관 | 한국생산기술연구원 Korea Institute of Industrial Technology |
등록번호 | TRKO200200027066 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | SPUTTERING TARGET.S/T.BRAZING.SOLDERING.AL. |
Sputtehng Target(S/T) 제조에 있어서 외국의 경우, 선진국인 미국, 일본, 독일이 반도체 전공정용 S/T가 이미 개발되어 4N이상의 초고순도에 재료를 고속증착(A1의 경우 7000A/min) 시킬 수 있는 Target이 개발되어 실용화 되고 있다. 그러나, 현재 국내에서는 Wafer Back Side의 산화방지 목적의 Au S/T가 (주) 미경사에 의해 개발되어 국내 반도체 업계에 납품되고 있으나, 이외의 반도체 부품제조 전공정용 S/T는 국내개발이 전혀 되어 있지 않고, 전량 수입에 의존하고 있는 실정이다. 이밖에
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.