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이온빔을 이용한 금속, 세라믹 표면의 고성능화 개질 및 세라믹 박막의 제작
Ion Beam Modification for Producing High Functional Metal and Ceramic Surface and Ceramic Thin Film Growth by Ion Beam 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한국과학기술연구원
Korea Institute Of Science and Technology
연구책임자 정형진
참여연구자 고석근 , 최원국 , 윤영수 , 조정 , 윤영하
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월1997-12
주관부처 과학기술부
사업 관리 기관 한국과학기술연구원
Korea Institute Of Science and Technology
등록번호 TRKO200200049225
DB 구축일자 2013-04-18

초록

가. 금속, 세라믹, 유리등의 표면을 소수성, 친수성으로 개질나. 고상 재료의 표면에 경사 기능층의 형성다. 이종 물질간의 접착력 증가라. 혼합기체 ion beam을 이용한 세라믹 박막의 제작

Abstract

목차 Contents

  • 제1장 서론...13
  • 제1절 연구목적...13
  • 제2절 이온도움 반응...16
  • 1.2.1 이온 빔과 폴리머 표면의 반응...16
  • 1.2.2 이온도움반응...17
  • 제3절 이온 원의 원리...19
  • 1.3.1 이온 원의 역사...19
  • 1.3.2 이원 원의 원리...21
  • 제4절 재료의 표면처리...24
  • 1.4.1 금속 AI의 표면처리...24
  • 1.4.2 Sol-gel PZT박막의 표면처리...27
  • 1.4.3 금속막 증착을 위한 ${Si}_{3}{N}_4$ 세라믹의 표면처리...36
  • 1.4.4 세라믹 박막의 합성...41
  • 제2장 실험 방법...43
  • 제1절 금속 AI의 표면처리...43
  • 2.1.1 시편준비...43
  • 2.1.2 플라즈마 방전...43
  • 2.1.3 이온 빔 처리...45
  • 2.1.4 염소 분무 부식 실험...47
  • 제2절 ${AI}_{2}{O}_{3}의 질소 이온에 의한 직접 조사 표면처리...47
  • 2.2.1 실험장치 및 시료...47
  • 2.2.2 표면분석...48
  • 제3절 Sol-gel PZT 박막의 표면처리(동시 열처리)...48
  • 2.3.1 실험조건 및 분석방법...49
  • 제4절 금속막 증착을 위한 ${Si}_{3}{N}_4$ 세라믹의 표면처리...50
  • 2.4.1 표면처리의 조건...50
  • 2.4.2 백금의 증착 조건...50
  • 제5절 세라믹 박막의 합성...50
  • 2.5.1 실험방법...51
  • 제3장 실험결과...53
  • 제1절 금속 AI의 표면처리...53
  • 3.1.1 결과 및 고찰...53
  • 3.1.2 결론...55
  • 제2절 ${AI}_{2}{O}_{3}의 질소 이온에 의한 직접 조사 표면처리...57
  • 제3절 Sol-gel PZT 박막의 표면처리(동시 열처리)...64
  • 3.3.1 결과 및 고찰...64
  • 3.3.2 Futher study...67
  • 제4절 금속막 증착을 위한 ${Si}_{3}{N}_4$ 세라믹의 표면처리...70
  • 제5절 세라믹 박막의 합성...71
  • 3.5.1 결과 및 고찰...71
  • 제4장 결론...75
  • 제5장 참고문헌...77

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참고문헌 (25)

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