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열전소자를 이용한 반도체장비용
Development of Thermoelectric Chilling Chiller for Semiconductor Equipment Using Thermoelectric Module

보고서 정보
주관연구기관 한국과학기술연구원
Korea Institute Of Science and Technology
연구책임자 하헌필
참여연구자 심재동
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2000-11
주관부처 과학기술부
사업 관리 기관 한국과학기술연구원
Korea Institute Of Science and Technology
등록번호 TRKO200200056684
DB 구축일자 2013-04-18

초록

I. 제 목
열전소자를 이용한 반도체장비용 전자냉각 Chiller개발
II. 연구개발의 목적 및 필요성
정보·통신산업의 급격한 발전에 따른 부품의 소형화·경량화 추세에 따라 세계적으로 고집적화 된 반도체의 개발에 총력을 기울이고 있다. 반도체가 고집적화될수록 제조공정에서의 요구조건은 더욱 엄격해지고 있는데, 그 중에서 대표적인 공정이 고정밀도가 요구되는 노광공정과 식각공정이다. 특히 건식식각공정에서는 wafer와 chamber의 온도가 식각공정의 주요지표인 etching 속도와 균일성에 큰 영향을 미치므로

Abstract

1.SUBJECT
Thermoelectric chiller for semiconductor equipment with using Thermoelectric Module.
2.Purpose and Necessity of R&D
Parts miniaturization and weight lightenization following rapid growth of information and telecommunication industry has world industry devote all his energy to d

목차 Contents

    • 제 1 장 서 론
        제 1 절 반도체 제조공정용 chiller
        제 2 절 전자냉각의 이론적 배경
      제 2 장 기술개발의 내용 및 범위
        제 1 절 전자냉각모듈의 냉각특성 측정
        제 2 절 2단 적층형 전자냉각모듈의 냉각특성
        제 3 절 전자냉각방식 chiller용 냉각
          3-1. 1단 전자냉각모듈을 사용한 냉각 unit에서의 Heat Balance Equation
          3-2. 2단 적층형 energetical cascade 전자냉각모듈을 사용한 냉각 unit 에서의 Heat Balance Equation
        제 4 절 1단 전자냉각모듈과 2단 적층형 전자냉각모듈을 사용한 전자냉각방식 chiller용냉각 unit의 수치해석
          4-1. C1 값이 냉각특성에 미치는 영향
          4-2. C2 값이 냉각특성에 미치는 영향
          4-3. H1 값이 냉각특성에 미치는 영향
          4-4. H2 값이 냉각특성에 미치는 영향
          4-5.

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참고문헌 (25)

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