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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국전자통신연구원 Electronics and Telecommunications Research Institute |
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연구책임자 | 김충기 |
참여연구자 | 이귀로 , 최덕인 , 장충석 , 장홍영 , 강석원 , 이석준 , 고욱회 , 최낙헌 , 송선규 , 김정원 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1992-02 |
등록번호 | TRKO200500015933 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
본 연구의 최종 목적은 ECR(Electron Cyclotron Resonance)plasma의 성질 및 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)와 식각 반응 기구(etching mechanism)에 대한 이론적인 이해와 이를 바탕으로 고집적 반도체 공정에 적합한 ECR 장비의 설계 및 제작 그리고
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