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NTIS 바로가기주관연구기관 | 한국전자통신연구원 Electronics and Telecommunications Research Institute |
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연구책임자 | 김성주 |
참여연구자 | 이대엽 , 안광덕 , 정동욱 , 박영철 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 1992-02 |
등록번호 | TRKO200500015949 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
현재 일반화되어있는 노볼락계 포토 레지스트는 드라이 엣칭에 대한 알칼리 수용액에서의 비팽윤 현상성, 미세가공 공정의 용이성 등의 장점으로 거의 독보적으로 사용되어 왔다. 최근에는 초미세 가공의 지속적인 발전으로 반도체의 고집적와 더불어 sub-half micron 해상
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