초록 ▼

A. 반도체 소자 및 공정기술 개발
$\bullet$ 고에너지 입자위치 추적용 양면 실리콘 $\mu$-strip제작
$\bullet$ PIN형 반도체 검출기용 실리콘 다이오드
$\bullet$ 감광막 처리 공정기술 개선
$\bullet$ 기 개발된 소자의 소량생산 지원
B. 반도체 시설 운영기술 개발
$\bullet$ 실리콘 및 화합물 반도체 실험실 운영
$\bullet

A. 반도체 소자 및 공정기술 개발
$\bullet$ 고에너지 입자위치 추적용 양면 실리콘 $\mu$-strip제작
$\bullet$ PIN형 반도체 검출기용 실리콘 다이오드
$\bullet$ 감광막 처리 공정기술 개선
$\bullet$ 기 개발된 소자의 소량생산 지원
B. 반도체 시설 운영기술 개발
$\bullet$ 실리콘 및 화합물 반도체 실험실 운영
$\bullet$ 반도체 연구장비 유지 보수
$\bullet$ 반도체 유틸리티 시설 운영
$\bullet$ 반도체 유틸리티 시설 유지 및 보수
$\bullet$ 환경 관리

Abstract ▼

A. Development of Semiconductor device & process technology
$\bullet$ Double side silicon $\mu$-strip fabrication for high energy particle position tracking
$\bullet$ PIN type silicon diode for semiconductor detector
$\bullet$ Improvement tech

A. Development of Semiconductor device & process technology
$\bullet$ Double side silicon $\mu$-strip fabrication for high energy particle position tracking
$\bullet$ PIN type silicon diode for semiconductor detector
$\bullet$ Improvement technique of photoresist processing
B. Development of semiconductor facility technology
$\bullet$ Operation of silicon and compound semiconductor laboratory
$\bullet$ Maintenance and repair of process equipment
$\bullet$ Operation of semiconductor utilities
$\bullet$ Maintenance and repair of utilities
$\bullet$ Management of environment

목차 Contents

• 제 1 장 서론...29
• 제 2 장 반도체 소자 및 공정 기술 개발...33
• 제 1 절 서론...35
• 제 2 절 고에너지 입자위치 추적용 양변 실리콘f-Strip제작...37
• 1. 서론...37
• 2. 양면 실리콘 $\mu$-Strip 제작 공정...38
• 3. 양면 실리콘 $\mu$-Strip 특성 평가...42
• 4. 결론...45
• 제 3 절 PIN형 반도체 검출기용 실리콘 다이오드...47
• 1. 서론...47
• 2. PIN 형 반도체 검출기 특성...48
• 3. 결론...54
• 제 4 절 감광막 처리 공정기술 개선...55
• 1. 감광막 대체 실험...55
• 2. 감광막 제거 용액교체 실험...60
• 3. 결론...64
• 제 5 절 결론...65
• 제 3 장 반도체시설 운영기술 개발...67
• 제 1 절 서론...69
• 제 2 절 반도체 종합실험실 운영...70
• 1. 반도체 실험 실 공정운영...70
• 2. 반도체 연구장비 유지보수...76
• 제 3 절 반도체 유틸리티 시설운영...79
• 1. 반도체 유틸리티 운영...79
• 2. 시설의 유지 및 보수...84
• 3. 환경 관리...87
• 제 4 절 공정기술 개발용 원,부 자재 관리...89
• 제 5 절 결론...91
• 제 4 장 결론 및 건의사항...93