초록 ▼

1x$10_{-4}$ $\textohm$.cm급 비저항을 가지며 90% 이상(@100nm)의 광투과도를 갖는 TCO 박막을 $150\cirC$ 이하의 저온에서 형성시키는 기술을 개발하고, In을 대체시킬 수 있는 대체 재료 실용화 기술을 개발하기 위해 1단계 연구 목표로서 TCO 박막재료 저온 합성을 위한 복합 플라즈마 소스 요소 기술 개발 o 저압 플라즈마 및 대전류 이온빔 소스 결합기술 - 플라즈마 발생압력: $10_{-4}$ torr 이하 - 이온빔

1x$10_{-4}$ $\textohm$.cm급 비저항을 가지며 90% 이상(@100nm)의 광투과도를 갖는 TCO 박막을 $150\cirC$ 이하의 저온에서 형성시키는 기술을 개발하고, In을 대체시킬 수 있는 대체 재료 실용화 기술을 개발하기 위해 1단계 연구 목표로서 TCO 박막재료 저온 합성을 위한 복합 플라즈마 소스 요소 기술 개발 o 저압 플라즈마 및 대전류 이온빔 소스 결합기술 - 플라즈마 발생압력: $10_{-4}$ torr 이하 - 이온빔 전류밀도: 100mA/$cm^2$ 이상 o 플라즈마 소스와 대전류 이온소스의 동기화 기술 및 순시변환(time variant) 기술개발 - source간 인가펄스들의 측정을 통한 동기화 확인 o $\ums$급 펄스 플라즈마, 보조 이온빔, 펄스 유도 eddy current 복합 적용 - 최적 장치설계 및 제작 결과물 o 경사 ITO 박막 형성 및 특성평가 - 밀착력 test: dlarpgkwnd $\geq$ 15N o eddy current 적용을 통한 결정화 촉진기술 개발 - XRD 분석결과에 의한 결정성 여부

Abstract ▼

The development of TSCS(Time-variant Synchronized Composite Source) technology for low temperature TCO thin film deposition - combination of low voltage plasma source / low energy high current ion beam source - optimal design and manufacture of power supplier for a order of $\ums$ low vol

The development of TSCS(Time-variant Synchronized Composite Source) technology for low temperature TCO thin film deposition - combination of low voltage plasma source / low energy high current ion beam source - optimal design and manufacture of power supplier for a order of $\ums$ low voltage plasma source/low energy high current ion beam source - Synchronized and time variant technology for plasma source and high current ion beam source - stable plasma generation by the combination of low voltage plasma source/low energy high current ion beam source Low temperature processing technology by the application of TSCS: - optimal design and manufacture of deposition system by the applications of pulse plasma, ion beam, and pulse eddy current - deposition of gradient ITO thin film and its characteristics - promotion of crystallization by the eddy current heating

목차 Contents

• 제 1 장 연구개발과제의 개요...13
• 제 1 절 연구개발의 기술적 중요성...14
• 제 2 절 연구개발의 경제.산업적 중요성...15
• 제 3 절 연구개발의 사회.문화적 중요성...19
• 제 2 장 국내외 기술개발 현황...20
• 제 1 절 국내.외 연구기관에서의 개발 현황...20
• 제 2 절 TCO 박막의 제법 및 연구 동향...22
• 1. 저온 프로세스에 의한 ITO 박막 합성 기술 분류...22
• 제 3 절 현기술상태의 취약성...25
• 제 3 장 연구개발수행 내용 및 결과...27
• 제 1 절 연구개발 방법...27
• 1. 고품질 TCO 개발의 핵심 문제...27
• 2. 연구추진전략 및 방법...28
• 2. 문제해결의 접근 방법...31
• 3. 단계별 연구개발 추진방법...32
• 제 2 절 Closed Drift Type Ion Beam Source 실험 결과...34
• 1. Closed Drift Type Ion Beam Source 설계기술...34
• 2. Closed Drift Type Ion Beam Source 특성 결과...39
• 3. 이온법에 의한 표면처리 효과...49
• 제 3 절 TCO 박막에의 응용 및 적용기술...52
• 1. 저온 공정에 의한 고품위 TCO 개발의 핵심 문제...52
• 2. 저온의 고품위 TCO 박막 합성을 위한 개발...55
• 제 4 절 TCO 박막 합성 및 특성 분석...60
• 제 5 절 고품위 TCO 박막 합성을 위한 RGA 위한 분석...73
• 제 6 절 경사 IZO 박막에 의한 표면 조도특성 향상화 기술...88
• 제 7 절 ITO 박막의 밀착력 특성 평가...106
• 제 8 절 Eddy Current Heating을 이용한 ITO 박막의 특성 평가...115
• 제 4 장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도...122
• 제 5 장 연구개발결과의 활용계획...124
• 제 6 장 연구개발과정에서 수집한 해외과학기술정보...126
• 제 7 장 참고문헌...128