초록 ▼

1. 이온주입법을 이용한 나노입자 합성기술 연구
o 이온주입에 의한 Si 나노결정 합성기술 개발
o 이온주입에 의한 화합물반도체(CdS, VO2) 나노결정 합성기술 개발
o 저온합성법을 이용한 나노입자 균질화 연구
2. 이온빔을 이용한 고분자 나노소재 개질 및 소자 응용
o 폴리아닐닌, 폴리피롤, PEDOT 등의 고분자 나노튜브 및 나노섬유 합성 및 이온빔 주입에 의한 전기적 특성 변화 연구
o 다중벽 탄소 나노튜브 이온빔 주입에 의한 전기적 특성 변화 연구 및 나노소자에의 활용성 연구.
o 고

1. 이온주입법을 이용한 나노입자 합성기술 연구
o 이온주입에 의한 Si 나노결정 합성기술 개발
o 이온주입에 의한 화합물반도체(CdS, VO2) 나노결정 합성기술 개발
o 저온합성법을 이용한 나노입자 균질화 연구
2. 이온빔을 이용한 고분자 나노소재 개질 및 소자 응용
o 폴리아닐닌, 폴리피롤, PEDOT 등의 고분자 나노튜브 및 나노섬유 합성 및 이온빔 주입에 의한 전기적 특성 변화 연구
o 다중벽 탄소 나노튜브 이온빔 주입에 의한 전기적 특성 변화 연구 및 나노소자에의 활용성 연구.
o 고분자 이온주입에 의한 전극제작 및 유기반도체 증착에 의한 유기 TFT 제작.
3. 이온 주입을 이용한 UV감지 박막소자 개발
o ZnO 박막 절연을 위한 최적 이온빔 종류, 선량 및 에너지 결정
o ZnO 표면 ohmic접촉 금속결정 및 수소 이온주입을 이용한 ohmic 접촉 공정 개발
o monochromatic UV 광원 제작
o 이온빔 절연기술을 응용한 n-ZnO/p-Si 수광다이오드 개발
o 이온빔 절연기술을 응용한 ZnO/SiO2/Si 박막트랜지스터 시험 개발
4. SOI 제조를 위한 Smart-Cut 기술 연구개발
o Si 기반의 SOI 웨이퍼 제작을 위한 Smart-Cut 기술 개발
o GaAs 기반의 GOI 웨이퍼 제작을 위한 Smart-Cut 기술 개발
o GaAs-Si 이종 웨이퍼 접합의 최적화 기술 확립
o 반도체 도파로 광소자 제작 공정 연구
5. 이온주입에 의한 반도체 광소자 개발
o 이온 주입을 이용한 bandgap engineered 반도체 레이저 다이오드 개발
- multi-section 레이저다이오드의 electrical isolation
- 이온주입을 이용한 quantum well intermixed edge-emitting laser diode 개발 및 특성분석
o 이온 주입에 의한 광도파로 개발
- 이온주입에 의한 굴절율 제어 및 특성 조사
- 곡선 광도파로 구현 및 특성분석
o 이온 주입에 의한 집적광소자제조 기술 개발을 위한 기반 기술 정립
- 이온 주입용 광변조기 구조 전산 모사 및 mask 제작
- 이온 주입을 이용한 광변조기 제작 및 특성 평가

Abstract ▼

1. Development of nanocrystal synthesis technique by ion implantation
o Study on the synthesis of silicon nanocrystals by ion implantation method
o Study on the synthesis of compound semiconductor (CdS, VO2) nanocrystals by ion implantation method
o Study on the size control technique of na

1. Development of nanocrystal synthesis technique by ion implantation
o Study on the synthesis of silicon nanocrystals by ion implantation method
o Study on the synthesis of compound semiconductor (CdS, VO2) nanocrystals by ion implantation method
o Study on the size control technique of nano-particles with non-thermal annealing
2. Modification of polymer nano-materials and application to devices by using ion beam
o Synthesis of polymer nanotube and nanowire (PAN, PPy, PEDOT), and a study of electrical properties of those materials using ion irradiation and application to supercapacitoro Study of electrical properties of MWCNT using ion-irradiation, and application to various nano-deviceso Fabrication of polymer electrode through ion-irradiation for organic TFT, and organic TFT fabrication after deposition of organic semi-conductor.
3. Fabrication and development of UV-detecting thin-film devices employing ion-beam-technique
o optimization of the ion-dose and ion-energy conditions for the isolation of n-ZnO film
o determination of ohmic contact metal for n-ZnO film and the development of ohmic metal/n-ZnO processes involving H-implantation.
o setting up a monochromatic UV-source current measurement unit
o fabrication of UV/visible n-ZnO/p-Si photo-diodes using ion-beam-induced isolation technique
o fabrication of UV-detecting ZnO-based thin-film transistors on SiO2/Si substrates
4. Research and development of Smart-Cut techniques for SOI fabrication
o development of Smart-Cut technologies for Si-based SOI wafers fabrication
o development of Smart-Cut technologies for GaAs-based GOI wafers fabrication
o establishment of optimized technologies for GaAs-Si hybrid wafer bonding
o research of fabrication procedures for semiconductor optical waveguide devices
5. Research and development for ion implanted semiconductor photonic device
o development of bandgap-engineered semiconductor laser diodes by using ion implantation
- electrical isolation of multi-section laser diode
- development and analysis of the characteristics of quantum well intermixed edge-emitting laser diode using ion implantation
o Development of optical waveguide by using ion implantation
- the control and investigation of the characteristics of a refractive index by using ion implantation
- realization and analysis of the characteristics of curved optical waveguide
o The establishment of basis fundamental technology for the development of the integrated photonic device fabrication technology by ion implantation
- computer simulation of optical modulator structure and manufacturing of mask for ion implantation process.
- manufacturing of optical modulator using ion implantation and it's properties evaluation

목차 Contents

• 제 1 장 서 론 ...35
• 제 2 장 국내외 기술개발 현황 ...42
• 제 3 장 연구개발수행 내용 및 결과 ...47
• 제1절 이온주입법을 이용한 나노입자 합성기술 연구 ...47
• 제2절 이온빔을 이용한 고분자 나노소재 개질 및 소자 응용 ...100
• 제3절 이온 주입을 이용한 UV감지 박막소자 개발 ...112
• 제4절 SOI 제조를 위한 Smart-Cut 기술 연구 개발 ...122
• 제5절 이온주입에 의한 반도체 광소자 개발 ...137
• 제 4 장 연구개발 목표 달성도 및 대외 기여도 ...146
• 제 5 장 연구개발결과의 활용계획 ...152
• 제 6 장 참고문헌 ...156