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NTIS 바로가기주관연구기관 | 중앙대학교 Chung Ang University |
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연구책임자 | 황호정 |
참여연구자 | 문원하 , 김태원 , 함정국 , 이재경 , 서재정 , 권순업 |
보고서유형 | 3단계보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2003-08 |
과제시작연도 | 2002 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국과학재단 Korea Science and Engineering Foundtion |
등록번호 | TRKO200900073225 |
과제고유번호 | 1350015544 |
사업명 | 국책연구개발사업 |
DB 구축일자 | 2015-01-08 |
키워드 | CMP.분자동역학.유체역학.모델링.전산모사.CMP.Molecular-Dynamic.Fluid Dynamic.Modelling.Simulation. |
본 연구에서 개발하고자 하는 CMP 공정 시뮬레이터의 개발은 두가지 측면에서 비교 분석할 수 있는 툴을 제공한다. 기존의 공정 시뮬레이터 툴은 단지 유체역학 (Fluid Dynamics)적인 측면에서 거시적 공정과정을 분석할 수 있었지만, 이번에 개발하고자하는 툴은 거시적 측면뿐만 아니라 미시적 측면, 즉 분자 및 원자 단위에서 일어나는 현상을 이해할 수 있는 분자 동역학(Molecular Dynamics) 해석 시뮬레이터를 제공함으로써, 더욱더 폭넓은 분석툴을 개발하고자 한다. 이는 향후 제품의 응용 가능성을 높여줌으로써 타 공정
CMP(Chemical Mechanical Polishing) is a rocess which planarizs a wafer surface to facilitate a following photo-lithography process or multi-level metalization. CMP process simulation offers the understanding of CMP process, which is one of the important semiconductor process. This tool include the a
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