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NTIS 바로가기주관연구기관 | 서울대학교 Seoul National University |
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연구책임자 | 서갑양 |
참여연구자 | 김재관 , 박지원 |
보고서유형 | 연차보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2005-05 |
과제시작연도 | 2004 |
주관부처 | 과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국과학재단 Korea Science and Engineering Foundtion |
등록번호 | TRKO201000012444 |
과제고유번호 | 1350008455 |
사업명 | 21C프론티어연구개발사업 |
DB 구축일자 | 2015-01-08 |
키워드 | 나노제조.모세관리 소그라피.대면적 패터닝.Nanofabrication.capillary force lithography.large area patterning. |
본 연구는 모세관 리소그라피를 이용한 100nm급 나노 구조를 4인치 웨이퍼위에 균일하게 얻을 수 있는 공정 모델링 과 이론적인 이해를 목표로 하였다. 기존의 모세관 리소 그라피 방법은 PDMS를 사용하였지만, 물질의 특성으로 resolution의 한계가 있었다. 따라서 100nm급 나노 구조물을 만들 수 있는 고분자 물질을 조사하였고, poly(methyl methacrylate)(thermoplastic), poly(urethane) (UV curable polymer)를 이용하여 실험을 하였다. PMMA는 온도를 150도정도로
Photolithography has been the main stay for nanofabrication for electronic and optical devices for the last few decades. Because of some intrinsic problems photolithography has for sub-100-nm patterning, there has been a growing demand for alternative nanofabrication methods to replace photolithogra
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