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고효율 광원 및 디스플레이 개발을 위한 넓은 띠 간격 반도체 기술 연구
Researches on the wide bandgap semiconductors for high efficiency light source and displays 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 광주과학기술원
Gwangju Institute of Science and Technology
연구책임자 박성주
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2010-02
과제시작연도 2009
주관부처 교육과학기술부
사업 관리 기관 한국연구재단
등록번호 TRKO201000012848
과제고유번호 1345099738
사업명 중견연구자지원
DB 구축일자 2013-04-18
키워드 발광다이오드.광결정.표면 플라즈몬.다중양자우물구조.투명 박막트랜지스터.게이트 절연막.ZnO.light emitting diode (LED).photonic crystal.MOCVD.surface plasmon.multiple quantum well.thin film transistor (TFT).gate insulating material.

초록

본 과제는 p-type ZnO 박막 성장 기술 및 표면 플라즈몬/광결정 기술, ZnO 발광다이오드 개발 기술 확립 및 고투과성의 p-type ZnO 투명 박막트랜지스터 개발에 대한 연구 수행을 목적으로 함.

Abstract

목차 Contents

  • 최종보고서...1
  • 목차...3
  • Ⅰ. 연구계획 요약문...4
  • 한글요약문...4
  • Ⅱ. 연구결과 요약문...5
  • 한글요약문...5
  • SUMMARY...6
  • Ⅲ. 연구내용 및 결과...7
  • 1. 연구개발과제의개요...7
  • 가. 연구목표...7
  • 나. 연구개발의 필요성 및 범위...7
  • 2. 국내외 기술개발 현황...8
  • 가. 고품위 ZnO 박막 성장조건 및 양자우물구조 개발...8
  • 나. 표면 플라즈몬을 이용한 발광다이오드 내부양자효율 향상...9
  • 다. 광결정을 이용한 광 추출효율 향상...9
  • 라. 산소 radical을 이용한 고품질 저온 p-type ZnO 박막 성장기술 개발...9
  • 3. 연구수행 내용 및 결과...10
  • 가. ZnO 발광다이오드 개발 기술 확립...10
  • 나. 고투과성의 ZnO 투명 박막트랜지스터 개발...32
  • 4. 목표달성도 및 관련분야에의 기여도...39
  • 가. 목표달성도...39
  • 나. 관련분야에의 기여도...41
  • 5. 연구결과의 활용계획...42
  • 6. 연구과정에서 수집한 해외과학기술정보...42
  • 7. 주관연구책임자 대표적 연구실적...43
  • 8. 참고문헌...44
  • 9. 연구성과...44
  • 10. 기타사항...56
  • 대표연구성과...57

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