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NTIS 바로가기주관연구기관 | 고려대학교 Korea University |
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연구책임자 | 김영근 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2010-03 |
과제시작연도 | 2009 |
주관부처 | 교육과학기술부 |
사업 관리 기관 | 한국연구재단 |
등록번호 | TRKO201000014566 |
과제고유번호 | 1345099480 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
키워드 | 자기터널접합,자기메모리,기록 재생 마진,스위치자기장,강자성비정질재료,터널배리어,스핀전달토크,수직자기이방성,미소자기 전산예측평가Magnetic Tunnel Junction,Magnetic Memory,Reading Writing Margin,Switching Field,Amorphous Ferromagnet,Tunnel Barrier,Spin Transfer Torque,Perpendicular Magnetic Anisotropy,Micromagnetic Simulation |
Gb급 MRAM(Magnetic Random Access Memory)용 나노자기터널접합(MTJ) 구현기술을 확립하기 위해, 재료설계적 접근방법으로 에피텍셜 구조를 갖는 MgO 터널배리어를 도입하고, 구조적으로는 CoFeSiB, NiFeSiB 등 비정질 강자성재료를 대상으로 하이브리드 합성형 자유층 구조와 CoFeSiB/Pt 수직자기이방성 구조를 설계, 저전류밀도를 확보한다. 미소자기 전산모사와 도메인 실측을 통해 자기적 거동을 예측 분석하고, E-beam lithography 방법으로 100 nm급 스핀전달토크형(STT) 나노자기
The purpose of this research is to reach nanoscale magnetic tunnel junctions (MTJs) for Gigabit-level Magnetic Random Access Memory (MRAM) and overcome the scaling limit. To approach with the materials design aspect, an epitaxial MgO tunnel barrier is adopted. And in terms of the structural concept,
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