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NTIS 바로가기주관연구기관 | 영남대학교 YeungNam University |
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연구책임자 | 이희영 |
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2004-07 |
주관부처 | 정보통신부 |
사업 관리 기관 | 정보통신연구진흥원 Institute for Information Technology Advancement |
등록번호 | TRKO201100000820 |
DB 구축일자 | 2013-04-18 |
▷ SBN박막에 대한 국내외 연구동향 파악/문헌조사
▷ 스퍼터 타겟 제조
- SBN25, SBN30, SBN60, SBN70
- 크기 및 밀도 : 2″φ, > 95% TD
- 고상 분말합성법으로 합성한 분말을 일축 가압성형 후 소결
▷ Ion Beam Sputter를 사용하여 박막 증착 (예비 실험)
- Base Pressure : < 10-6 torr
- Working Pressure : 10-4 ~10-3 torr
- Sputter Gas : Ar 또는 Ar + O2 (Ar/
▷ SBN thin films prepared by Ion Beam Sputtering
- Base Pressure : < 10-6 torr
- Working Pressure : 10-4 ~10-3 torr
- Sputter Gas : Ar or Ar + O2 (Ar/O2 ratio controled )
- substrate temperature : 300~500℃
- substrate : Pt/Ti/SiO2/Si, Pt/SiO2/Si, Si, fused-quartz
- annealing
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