초록 ▼

1. 최종목표
주파수 천이 기법을 활용하여 기존의 플라즈마 문제점을 개선하고 다양한 산업현장에 적용할 수 있는 표면처리 시스템을 개발한다.
(1) 기술개발 목표
■ 공진 주파수를 사용한 주파수 천이방식 기술 개발
■ DSP를 사용하여 고효율 및 저중량을 위한 전력전자 제어기술 개발
■ 정 출력 제어를 위한 플라즈마 제어기술 개발
(2) 장치개발 목표
■ 외부 노이즈 차폐용 전원 회로부 설계 및 제작
■ 구동 컨버터 회로부 설계 및 제작
■ 고주파 스위칭 회로 설계 및 제작
■ 고

1. 최종목표
주파수 천이 기법을 활용하여 기존의 플라즈마 문제점을 개선하고 다양한 산업현장에 적용할 수 있는 표면처리 시스템을 개발한다.
(1) 기술개발 목표
■ 공진 주파수를 사용한 주파수 천이방식 기술 개발
■ DSP를 사용하여 고효율 및 저중량을 위한 전력전자 제어기술 개발
■ 정 출력 제어를 위한 플라즈마 제어기술 개발
(2) 장치개발 목표
■ 외부 노이즈 차폐용 전원 회로부 설계 및 제작
■ 구동 컨버터 회로부 설계 및 제작
■ 고주파 스위칭 회로 설계 및 제작
■ 고전압 보호 등의 제어기능을 위한 마이크로프로세서부 설계 및 제작
2. 개발내용 및 결과
■ 주파수 천이기법을 사용한 플라즈마 제어기법은 보다 안정적인 표면처리를 유도
■ 방전거리와 플라즈마 처리 대상물이 다를수록 공진주파수대가 변화되는 제어의 범용성을 구현
■ 제품생산 공정과 속도변경에 따라 변화하는 두께 및 방전부하에 자동으로 대응될 수 있는 정출력 자동 연산 기능으로 인하여 제품 품질향상에 기여
■ 본 과제에서 제안된 플라즈마 제어방법으로 기존의 응용분야에 적용 및 다양성 확보

목차 Contents

• 3. 과제별 세부 집행내역 ...1
• 개발결과의견서 ...3
• 최종보고요약서(초록) ...4
• 목차 ...7
• 제 1 장 서론 ...8
• 1-1 시장 현황 ...8
• 1-2 기술 현황 ...9
• 1-3 기존 플라즈마 제어의 문제점 ...10
• 1-4 개발 요구 사항 ...11
• 1-5 기술적 검토 ...12
• 제 2 장 과제개발 내용 및 방법 ...14
• 2-1 개발내용 및 범위(시스템 구성도, 구조 등은 그림으로 표현) ...15
• 제 3 장 개발 상세 내용 ...26
• 3-1 Software 설계 구현 ...26
• 3-2 주파수 천이방법 ...33
• 3-3 Hardware 설계 구현 ...34
• 제 4 장 제어방법에 의한 실험과 검증 ...47
• 4-1 표면처리 반응효과 ...47
• 4-2 실험 및 검증 ...49
• 제 5 장 결론 ...54
• 5-1 기술적 성과 ...54
• 5-2 경제적 성과 ...55
• 5-3 결론 ...56
• 5-4 향후 계획 ...57