최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기주관연구기관 | (주)디에스테크노 |
---|---|
보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2011-07 |
과제시작연도 | 2010 |
주관부처 | 중소기업청 Small and Medium Business Administration |
과제관리전문기관 | 중소기업기술정보진흥원 Korea Technology & Information Promotion Agency for SMEs |
등록번호 | TRKO201200005726 |
과제고유번호 | 1425061103 |
사업명 | 제조현장녹색화기술개발지원 |
DB 구축일자 | 2013-05-20 |
키워드 | 석영 튜브.균일.가열.균열.두께. |
1. 대상기술의 특성 및 범위
본 대상 제품은 반도체공정 중 건식식각공정에 사용하는 200mm용, 300mm용 Si Part (Silicon cathode 및 Focus Ring류) 및 Etch, Thin Film, Diffusion, Wet station, Epitaxial growth 공정에 사용하는 Quartz Part(Vertical boat & pedestal, Tube, window, Bath류 등)의 반도체용 핵심부품등을 연구개발 및 생산하고 있다.
또한, 이중 quartz part의 outer tube의 경
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.