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NTIS 바로가기주관연구기관 | (주)제이앤엘테크 |
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2010-05 |
과제시작연도 | 2009 |
주관부처 | 중소기업청 Small and Medium Business Administration |
등록번호 | TRKO201200005962 |
과제고유번호 | 1425055432 |
사업명 | 중소기업상용화기술개발 |
DB 구축일자 | 2013-05-20 |
키워드 | ATONA(Atomic Nitriding Application).Post Plasma.Screen Plasma.HCD(Hollow Cathode Discharge). |
열 • 표면처리공정을 이용한 표면 가공 기술은 금형, 기계부품, 가공공구, 전자부품 등의 수명향상 및 다양한 기능성의 향상을 목적으로 하며, 국제 경쟁력을 결정하는 기반 기술로서 자동차, 가전, 건설기기, 베어링, 공구 등 한국을 대표하는 제품부터 금속제품, 수송기, 기계, 정밀기계, 전기 기계등 대부분의 공업 영역에 포함되어 부품의 상당수가 열처리 공정을 거쳐 최종 제품화되고 있다.
그러나 열 • 표면처리 기술은 경쟁력 확보를 위해 계속해서 기술 혁신이 요구되는 분야로 공정비용 감소와 고품질 표면에 대한 요구가 증대되고 있다
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