초록 ▼

1. 기술개발목표
제품(반도체, LCD, 기타)別, 청정도別R.F.U(Return Fan Unit) System 최적설계 및 제품 개발
2. 기술개발의 목적 및 중요성
21세기 들어 공기정화 및 공기청정도가 필요한 모든 산업분야에서 청정실(클린룸)은 필수요소로 자리 잡았다. 특히 반도체 및 LCD 제조분야에서 클린룸 기술은 생산경쟁력인 수율과 불가분의 관계라는 점에서 아무리 강조해도 지나치지 않다. 단순히 초청정 공간의 구성이라는 개념에서 벗어나 입자 외의 광범위한 오염요인의 제어가 필요하게 되었다.
이에 대한

1. 기술개발목표
제품(반도체, LCD, 기타)別, 청정도別R.F.U(Return Fan Unit) System 최적설계 및 제품 개발
2. 기술개발의 목적 및 중요성
21세기 들어 공기정화 및 공기청정도가 필요한 모든 산업분야에서 청정실(클린룸)은 필수요소로 자리 잡았다. 특히 반도체 및 LCD 제조분야에서 클린룸 기술은 생산경쟁력인 수율과 불가분의 관계라는 점에서 아무리 강조해도 지나치지 않다. 단순히 초청정 공간의 구성이라는 개념에서 벗어나 입자 외의 광범위한 오염요인의 제어가 필요하게 되었다.
이에 대한 여러가지 오염제어방안이 수립되고 있지만 제품대형화가 가속화 되면서 제품이 오염원인 미립자에 노출 될 수 있는 가능성이 점점 높아지고 있다. 또한 필요한 수준까지 오염원을 관리하기 위해서는 종전의 재래식 클린룸으로는 고직접회로의 구성을 위한 실질적인 고품질 레벨에서의 청정환경 구성도 어려워지고 오염원의 미세관리 방법도 복잡하게 되며 투자.비용이 거대화 되는 장벽에 부딪치게 된다. 클린룸은 생산성 향산을 통해 생산단가를 낮출 수 있다는 점에서 효율적이지만 제조공정의 대형화로 클린룸 설비투자에 막대한 비용이 소요된다는 점은 제조업계에서는 늘 고민거리로 작용한다. 현재 국내 반도체, LCD공장에서의 Clean Room 시스템은 대기류 시스템으로 운영되고 있으나 중.소기류를 제어 할 수 있는 국소배기장치(R.F.U)를 개발하여 클린룸 관리를 보다 효율적이고 경제적으로 운영하여 생산품질을 높여 기업경쟁력을 강화할 방안이 다각적으로 검토되고 있다.
삼성전자, LG Display등이 대규모 투자를 진행, 국내 클린룸 산업을 주도하고 있다. 향후 클린룸의 적용 범위는 의약품, 식품등의 제조산업으로 확산되는 추세이며 국소배기장치(R.F.U) 개발은 기존 Clean Room의 대기류시스템에서 제어하지 못하는 중.소기류를 제어하는 장치로 세계적 Clean Room 제조공정에 적용하는 사례가 많을 것으로 추정한다.

목차 Contents

• 선도형기술혁신개발지원사업 최종보고서 ... 1
• 표지 ... 2
• 제출문 ... 3
• 과제 요약서(초록) ... 4
• 목차 ... 7
• 제 1장 서론 ... 8
• 제 1절 사업 개요 ... 8
• 제 2절 사업 목표 ... 9
• 제 2장 국내,외 기술개발 동향 및 특허동향 ... 10
• 제 1절 국내,외 관련 기술개발 동향 ... 10
• 제 2절 국내,외 특허동향 ... 14
• 제 3장 사업 수행내용 및 결과 ... 15
• 제 1절 사업수행 내용 ... 15
• 제 2절 사업수행 결과 ... 18
• 제 3절 결과물에 대한 평가 방법 및 항목 평가 결과 ... 41
• 제 4 장 사업수행 결과의 활용계획 ... 44
• 제 1절 관련분야에의 기여도 ... 44
• 제 2절 활용계획 ... 45
• [별 첨] 공동연구기관 개발 결과-첨단장비 활용 부문 ... 46