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NTIS 바로가기주관연구기관 | 서울대학교 Seoul National University |
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2012-10 |
과제시작연도 | 2011 |
주관부처 | 교육과학기술부 Ministry of Education and Science Technology(MEST) |
등록번호 | TRKO201300012139 |
과제고유번호 | 1345158228 |
사업명 | 일반연구자지원 |
DB 구축일자 | 2013-08-26 |
DOI | https://doi.org/10.23000/TRKO201300012139 |
나노 전자 소자를 제작하기 위해서는 나노 입자 또는 나노선을 원하는 위치에 배치 정렬시키는 기술의 개발이 필요하다. 본 연구팀은 atomic force microscopy(AFM) indentation 방법을 이용해 원하는 패턴을 제작하고 indentation 패턴 제작시 패턴 주위에 생기는 벌지(bulge)를 제거하는 기술을 개발함으로써 나노 입자를 배열하는 기술을 개발한 바 있다. 이번 연구에서는 AFM indentation을 이용해 재현성 있는 나노 입자 및 나노선을 제작하는 방법에 대해 연구를 진행했으며, 이렇게 제작된 나노
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