초록 ▼

Ⅱ-1. 연구개발의 목적
: 본 연구에서는 유연 고분자 기판에 고성능 TFT를 제작하는 원천 기술을 개발하고자 한다. 차세대 나노패터닝 기술로 주목받고 있는 나노 임프린팅 기술을 이용하여 유연 고분자 기판에 고성능 TFT를 제작하기 위하여 본 연구그룹에서는
(1) 기 개발된 무잔류층(zero-residual) 나노 임프린트 기술을 이용하여
(2) 유연 고분자 기판위에 금속 전극 나노 패턴을 형성하고
(3) 자기조립 단분자막(self-assembled monolayer) 패턴을 이용하여 나노 소재(나노 입자, 나

Ⅱ-1. 연구개발의 목적
: 본 연구에서는 유연 고분자 기판에 고성능 TFT를 제작하는 원천 기술을 개발하고자 한다. 차세대 나노패터닝 기술로 주목받고 있는 나노 임프린팅 기술을 이용하여 유연 고분자 기판에 고성능 TFT를 제작하기 위하여 본 연구그룹에서는
(1) 기 개발된 무잔류층(zero-residual) 나노 임프린트 기술을 이용하여
(2) 유연 고분자 기판위에 금속 전극 나노 패턴을 형성하고
(3) 자기조립 단분자막(self-assembled monolayer) 패턴을 이용하여 나노 소재(나노 입자, 나노 와이어, 나노 리본)를 정렬시키고
(4) sol-gel 임프린팅을 이용하여 기능성 소재의 나노 구조물을 제작하고 이들을 융합하여 궁극적으로는 고성능 TFT 소자 array를 고분자 필름 등의 비 웨이퍼 기판위에 형성시키는 원천 기술을 개발하고자 한다.
Ⅱ-2. 연구개발의 필요성
- 기술적 측면 : 평판 디스플레이의 기판 크기가 증가함에 따라 기존의 노광 기술을 이용한 패턴 형성 공정이 어려워짐에 따라 이를 대체하기 위한 차세대 패터닝 공정이 요구되고 있다. 나노 임프린트 리소그래피 기술은 대면적에 나노 패턴을 저가의 공정을 통해 제작할 수 있는 차세대 패터닝 기술로써 이는 3차원 패턴 형성 및 기능성 물질의 직접 패터닝 또한 가능한 기술로써 미래 기술 경쟁력 확보를 위한 국내 기술 확보가 절대적으로 요구된다.
- 경제·산업적 측면 :　국내 평판 디스플레이 산업은 세계 시장 점유율 1위이며 이를 유지하기 위해 대면적 디스플레이용 광부품의 저가 양산공정이 요구된다. 나노 임프린트 리소그래피 기술은 대면적 기판에 저가의 공정을 통해 나노 패턴을 형성할 수 있는 미래나노 산업의 핵심 기술 중 하나이다. 나노 임프린트 리소그래피의 원천 기술을 확보함으로써 관련 세계 시장을 선점하고 막대한 경제적 이익을 얻을 수 있을 것이다.
　　- 사회·문화적 측면 : 본 연구제안서에서 제시하는 임프린팅 제반 기술은 친환경적인 선진국형 나노 소자 제작 기술로써 본 과제를 통해 개발될 고기능성 TFT 기술은 디스플레이에 적용 이외에도 타 기술 분야에 적용되어 나노 기술의 상용화시기를 앞당길 수 있는 핵심 원천 기술이다. 이로 인해 다기능, 고효율 첨단 나노 부품 시대가 도래 할 것이며 이는 다양한 미래 산업을 발전시키고 인간의 삶의 질 향상에 크게 기여할 것이다.

Abstract ▼

Develope nano imprint basis-technology to fabricate multi-layer structured TFT device using nano imprint lithography process and research direct patterning technology for materials which have good electronic properties. By developing TFT array fabrication process using these technologies and apply t

Develope nano imprint basis-technology to fabricate multi-layer structured TFT device using nano imprint lithography process and research direct patterning technology for materials which have good electronic properties. By developing TFT array fabrication process using these technologies and apply to polymer substrate, establish the core technology for application of nano imprint lithography to display industry.
▪ Develpment of basis technology for fabrication of multi layer TFT device with nano imprint lithography
- Fabrication of nano imprinting mold to fabricate TFT device
- Multi layer device fabrication technology using nano imprint lithography
- Nano imprint technology for fabrication of TFT devices
- Fabrication technology for Si single crystal nano ribbons which is used on
TFT device with SOI wafer
- Develope transferring technology for single crystal Si nano ribbon
▪ Development of functional material direct pattering
- Fabrication of high mobility ZnO nano island with direct pattering process
- Fabrication TFT array with functional nano island structure
▪ Development of TFT fabrication technology for flexible display
- Nano imprint lithography for polymer substrate
- TFT fabrication technology with polymer substrate

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 제 출 문 ... 2
• 보고서 요약서 ... 2
• 요 약 문 ... 4
• SUMMARY ... 7
• CONTENTS ... 8
• 목 차 ... 8
• 제1장 연구개발과제의 개요 ... 9
• 제1절 연구 개발의 목적 ... 9
• 제2절 연구 개발의 필요성 및 범위 ... 10
• 제2장 국내외 기술개발 현황 ... 16
• 제1절 국내 기술개발 현황 ... 16
• 제2절 국외 기술개발 ... 18
• 제3절 기존기술의 한계 및 수행되어야할 연구 개발의 방향 ... 22
• 제4절 연구결과가 국내·외 기술개발현황에서 차지하는 위치 ... 23
• 제3장 연구개발수행 내용 및 결과 ... 30
• 제1절 1차년도 연구결과 ... 30
• 제2절 2차년도 연구결과 ... 37
• 제3절 3차년도 연구결과 ... 53
• 제4장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도 ... 67
• 제1절 목표달성도 ... 67
• 제2절 관련분야 기술발전에의 기여도 ... 70
• 제5장 연구개발결과의 활용계획 ... 71
• 제1절 추가연구의 필요성 ... 71
• 제2절 타연구로의 응용 ... 71
• 제3절 기업화 추진방안 ... 71
• 제6장 연구개발과정에서 수집한 해외과학기술정보 ... 73
• 제1절 미국의 TFT 기술개발현황 ... 73
• 제2절 일본의 TFT 기술개발현황 ... 74
• 제3절 대만의 TFT 기술개발현황 ... 75
• 제4절 영국의 TFT 기술개발현황 ... 76
• 제7장 참고문헌 ... 78