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NTIS 바로가기주관연구기관 | 고려대학교 산학협력단 Korea University |
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보고서유형 | 3단계보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2011-05 |
과제시작연도 | 2010 |
주관부처 | 교육과학기술부 Ministry of Education and Science Technology(MEST) |
과제관리전문기관 | 한국연구재단 National Research Foundation of Korea |
등록번호 | TRKO201300012734 |
과제고유번호 | 1345119776 |
사업명 | 미래기반기술개발 |
DB 구축일자 | 2013-08-26 |
키워드 | 트랜지스터.나노 임프린트 리소그래피.징크옥사이드.단결정 실리콘 나노 리본.나노 섬.직접 패터닝.선택적 전사.임프린팅 몰드.유연 고분자 기판.Thin film transistor.Nanoimprint lithography.Zinc oxide.single Si nano ribbon.Nano-island.Direct patterning.Self-alignment.Imprinting mold.Flexible polymer substrate. |
DOI | https://doi.org/10.23000/TRKO201300012734 |
Ⅱ-1. 연구개발의 목적
: 본 연구에서는 유연 고분자 기판에 고성능 TFT를 제작하는 원천 기술을 개발하고자 한다. 차세대 나노패터닝 기술로 주목받고 있는 나노 임프린팅 기술을 이용하여 유연 고분자 기판에 고성능 TFT를 제작하기 위하여 본 연구그룹에서는
(1) 기 개발된 무잔류층(zero-residual) 나노 임프린트 기술을 이용하여
(2) 유연 고분자 기판위에 금속 전극 나노 패턴을 형성하고
(3) 자기조립 단분자막(self-assembled monolayer) 패턴을 이용하여 나노 소재(나노 입자, 나
Develope nano imprint basis-technology to fabricate multi-layer structured TFT device using nano imprint lithography process and research direct patterning technology for materials which have good electronic properties. By developing TFT array fabrication process using these technologies and apply t
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