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NTIS 바로가기주관연구기관 | 고려대학교 Korea University |
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보고서유형 | 최종보고서 |
발행국가 | 대한민국 |
언어 | 한국어 |
발행년월 | 2011-03 |
과제시작연도 | 2010 |
주관부처 | 교육과학기술부 Ministry of Education and Science Technology(MEST) |
등록번호 | TRKO201300013168 |
과제고유번호 | 1345124089 |
사업명 | 중견연구자지원 |
DB 구축일자 | 2013-07-29 |
키워드 | 나노구조.저차원탄소결정계.그래핀.나노재료.nanostructure.low dimensional.carbon graphene.CVD.nanomaterials. |
DOI | https://doi.org/10.23000/TRKO201300013168 |
연구의 목적 및 내용:
CVD 방법으로 SiO2/Si 기판상에 대면적 그래핀을 직접 성장시킬 수 있는 공정을 연구하고, 성장된 그래핀 시트의 구조적, 광아학적, 열적, 전기적 및 자기적 특성을 탐색한다. 그래핀의 전자적 응용 범위를 넓히기 위해 필수적인 에너지틈을 만들어내기 위해 나노리본 형태로 식각하고 다양한 전극배위를 통해 그래핀리본의 전자적 수송특성과 자기적 특성을 연구한다. 본 연구를 통해 향후 그래핀의 응응 연구에 유용하게 활용될 수 있는 토대 지식과 기술을 제공한다.
연구결과:
게이트 전극을 갖는 패턴된
Purpose & contents:
When CVD grown graphene is patterned into a narrow ribbon, and the charge carriers would confined to one-dimensional system, one expect opening of the energy gap. However, when the size of graphene decreased to nano deimension, other complex aspect emerge because of the growin
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