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[국가R&D연구보고서] 나노 임프린트 리소그래피 공정에서의 고 신뢰성 패턴 전사 기술 개발
Development of High Reliable Pattern Transfer Technology in Nanoimprint Lithography 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 순천향대학교 산학협력단
연구책임자 김국원
보고서유형최종보고서
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월2012-06
과제시작연도 2011
주관부처 교육과학기술부
연구관리전문기관 한국연구재단
National Research Foundation of Korea
등록번호 TRKO201300018505
과제고유번호 1345154668
사업명 기본연구지원사업
DB 구축일자 2013-09-21

초록

1. 1차년도: 나노임프린트(열 방식) 리소그래피 공정에 대한 유한요소해석 모델 및 실험장비를 개발하였다. 해석모델의 경우 레지스트 재료의 rate 특성(점탄성체, 유체)을 고려한 모델을 개발하였으며, 스탬프와 레지스트의 상호접촉 상태를 모델링하여 보다 실제적인 임프린트 공정해석을 수행할 수 있게 되었다. 또한 임프린트 가압방법(더미블록, 롤링 등)에 따른 임프린트 공정의 정밀도 해석을 수행하였으며, 롤링방식의 경우 대면적 패턴 방식에 적합하다고 판단되어 지속적인 연구를 수행하였다. 마지막으로 나노임프린트 실험시스템을 설계하고 제작

목차 Contents

  • 일반연구자지원사업 최종(결과)보고서 ... 1
  • 목 차 ... 3
  • Ⅰ.연구결과요약문 ... 4
  • Ⅱ. 연구내용 및 결과 ... 5
  • 1. 연구과제의 개요 ... 5
  • 2. 국내외 기술개발 현황 ... 5
  • 3. 연구수행 내용 및 결과 ... 6
  • 4. 목표 달성도 및 관련 분야에의 기여도 ... 7
  • 5. 연구결과의 활용계획 ... 8
  • 6. 연구과정에서 수집한 해외과학기술정보 ... 8
  • Ⅲ. 연구성과 ... 9

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